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晶圆抛光机厂家
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晶圆磨边机和晶圆倒角机的区别

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发布时间 : 2025-04-28 14:01:31

       晶圆磨边机和晶圆倒角机在半导体制造中均用于晶圆边缘加工,但两者在功能目标、加工工艺、设备结构、应用场景等方面存在显著差异。以下为具体分析:


全自动高精密晶圆减博机700.jpg

晶圆倒角机


        一、功能目标不同

       晶圆磨边机:侧重于边缘形貌修整与尺寸控制,通过去除晶圆边缘多余材料,消除切割、研磨等工序产生的微观裂纹、毛刺或不规则形貌,确保边缘轮廓符合设计公差,为后续工艺提供稳定的基础。

       晶圆倒角机:聚焦于边缘应力释放与强度提升,通过在晶圆边缘加工特定角度的倒角(如45°或弧形),降低边缘应力集中风险,防止后续加工或使用过程中发生崩边、裂纹扩展等问题,同时提升晶圆在封装、运输中的抗冲击能力。

       

       二、加工工艺差异

       晶圆磨边机:

       加工方式:采用金刚石砂轮或研磨盘进行物理研磨,通过控制砂轮转速、进给速度和压力,实现边缘材料的精准去除。

       工艺特点:强调尺寸精度(边缘轮廓误差需控制在微米级)和表面质量(粗糙度需满足特定要求),通常需配合在线测量系统实时监控加工结果。

       晶圆倒角机:

       加工方式:采用旋转刀具或砂轮沿晶圆边缘进行切削或研磨,形成预设角度的倒角面。部分设备支持弧形倒角加工,以进一步优化应力分布。

       工艺特点:关键参数包括倒角角度、宽度和表面粗糙度,需确保倒角面与晶圆主体平滑过渡,避免引入新的应力集中点。 


       三、设备结构与控制逻辑

       晶圆磨边机:

       结构特点:通常配备高精度主轴、线性导轨和闭环控制系统,支持多轴联动以实现复杂边缘轮廓加工。部分设备集成边缘轮廓扫描仪,可实时反馈加工偏差并自动修正。

       控制逻辑:以尺寸闭环控制为核心,通过预设目标轮廓与实时测量数据的对比,动态调整加工参数。

       晶圆倒角机:

       结构特点:核心部件为倒角刀具及其驱动系统,需配备角度定位机构和深度控制系统。高端设备支持非接触式测量(如激光测距),避免对晶圆表面造成污染。

       控制逻辑:强调角度与深度双闭环控制,通过多传感器协同工作确保倒角参数的稳定性。


       四、应用场景与工艺阶段

       晶圆磨边机:

       应用场景:主要用于晶圆切割后的边缘精修,或作为晶圆减薄、背金等工艺前的预处理步骤。

       工艺阶段:属于中道工艺,对晶圆边缘的尺寸精度要求较高,直接影响后续光刻、刻蚀等工序的良率。

       晶圆倒角机:

       应用场景:广泛应用于封装前处理或高可靠性器件制造,尤其适用于功率半导体、MEMS器件等对边缘强度敏感的领域。

       工艺阶段:通常位于后道工艺,通过提升晶圆边缘的机械性能,降低封装或使用过程中的失效风险。


       五、对晶圆性能的影响

       晶圆磨边机:

       正面影响:优化边缘轮廓可减少后续工艺中的边缘效应(如光刻胶涂覆不均),提升器件的电学性能一致性。

       潜在风险:若加工参数控制不当,可能导致边缘区域产生微裂纹或亚表面损伤,需通过后续清洗、检测等工序进行管控。

       晶圆倒角机:

       正面影响:显著降低晶圆边缘的应力集中,提升抗热震性能和机械强度,尤其适用于高温、高压等恶劣工况下的器件。

       潜在风险:倒角加工可能引入局部应力释放导致的晶格畸变,需通过工艺优化(如调整倒角角度)平衡应力分布。


       深圳市梦启半导体装备有限公司专业研发和生产晶圆减薄机,晶圆倒角机,CMP抛光机,晶圆研磨机,碳化硅减薄机,半导体减薄机,硅片减薄机,晶圆抛光机;欢迎大家来电咨询或来公司实地考察!


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