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单面CMP抛光机

型号:DL-855/4P-CMP

单面抛光机是单面精密抛光设备,采用先进的机械结构和多种先进控制方法,抛光加工效率高,运行稳定。

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单面CMP抛光机
设备优势

◎ 本设备为单面精密抛光设备,采用先进的机械结构和多种先进控制方法,抛光加工效率高,运行稳定。


◎ 整机采用PLC+触摸屏控制系统,设备参数设置和操作简单方便,系统运行稳定性高。


◎ 主电机采用变频调速控制,实现主机软启动、软停机降低设备运行冲击,减少工件损伤。


◎ 工件抛光压力采用气缸加压方式,通过电气比例阀控制实现压力的闭环控制,保证极高的施压精度与稳定性。


◎ 上压盘采用主动驱动方式,在确保产品撤光速率的前提下保证各工位抛光加工的统一性。


◎ 抛光盘与上压盘都设置了冷却水冷却功能,在保证抛光液发挥最大效率的同时减少抛光盘面的变形。


性能参数
参数名称单位DL-855/4P-CMP
主电源V三相 380
主电机功率KW15
主电机转速RPM0~85
上盘驱动电机转速RPM0~70
抛光盘尺寸mm855
加工尺寸2-8
工作工位4
工件盘尺寸
mmΦ305x15
单工位压力Kg20~300
抛光液流速L/min15(可调)
主盘温度检测±5
设备尺寸(W x D x H)mm1200x1650x2250
设备重量Kg约2450
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TAG标签:单面抛光机晶圆抛光机软抛机精密抛光机